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半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹
光刻是半導(dǎo)體制造過程中不可少的工藝之一。
晶圓被光刻膠,然后進行蝕刻和摻雜過程。
NLT3-591nm系列以光刻膠不反應(yīng)的波長發(fā)光,使其適用于光刻前后工藝中的設(shè)備照明,這是一種半導(dǎo)體制造工藝。
半導(dǎo)體設(shè)備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等
發(fā)光二極管波長 | 591納米 |
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預(yù)期壽命 | 工作溫度 40°C 40,000 小時 * 壽命是照度為初始照度的 70% 時 |
工作溫度 | -10°C~40°C(但不凍結(jié)) |
防護等級 | IP65 防護等級 |
電源線 | 3 米 (AWG26x2C) |
選擇 | 安裝磁鐵 (ND-P03) |
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型 | 繪圖 | 總光通量 | 照度(1米) | 權(quán)力 | 功耗 |
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NLT3-10-直流-S(591納米) | 300 流明 | 80 lx | 直流24V | 3.8瓦 | |
NLT3-20-直流-S(591納米) | 610 流明 | 160 lx | 8W | ||
NLT3-30-直流-S(591納米) | 930 流明 | 230 lx | 12W | ||
NLT3-40-直流-S(591納米) | 1,240 流明 | 310 lx | 16W |