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agc濺射靶材的特點及運用示例分析
汽車和住宅用表面處理玻璃的低輻射涂層
顯示膜和玻璃減反射涂層
觸摸屏等光學調(diào)整膜(折射率匹配膜)
信息電子玻璃用光學多層膜(CD、DVD等的鏡子)
材料 | 產(chǎn)品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 薄膜(氧化膜用) | |||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
平板 | 圓柱 | 直流濺射 | 特征 | 耐堿性 | 耐酸性 | 耐刮擦 | 其他的 | ||
硅基 | SC | ○ | ○ | 高速成膜(>結晶Si)、 高強度、高導熱率 | ○ | ○ | ○ | n=1.46 無定形 | |
熱噴涂硅 | ○ | ○ | ○ | 穩(wěn)定放電 | ○ | ○ | ○ | n=1.46 無定形 | |
鈮基 | N.B.O. | ○ | ○ 熱噴涂 | ○ | 高密度、 高速成膜(>Nb) | ○ | ○ | ○ | n= 2.3 無定形 |
鈦基 | TXO | ○ | ○ 熱噴涂 | ○ | 高速成膜(>Ti) | ○ | ○ | ○ | n=2.45 無定形 |
此處列出的質量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關于下單時的質量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。
由于其高強度、高導熱性、均勻的結構靶材,實現(xiàn)了長期穩(wěn)定放電。
與使用結晶Si成膜的情況相比,成膜速度提高了20%。
通過氧化反應濺射獲得非晶SiO 2膜。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
成膜速度比金屬鈮成膜時快3倍以上。
通過氧化反應濺射獲得非晶Nb 2 O 5膜。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
成膜速度比金屬Ti快7倍以上。
通過氧化反應濺射獲得非晶TiO 2膜。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
汽車、住宅用表面處理玻璃(有色玻璃、熱反射玻璃等)保護膜
顯示薄膜(觸摸屏等)的防反射涂層
適用于條碼閱讀器和復印機頂部玻璃的防刮保護膜
適用于所有需要耐堿、耐刮傷的薄膜的保護膜。
材料 | 產(chǎn)品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 薄膜(氧化膜用) | |||||
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平板 | 圓柱 | 直流濺射 | 特征 | 耐堿性 | 耐酸性 | 耐刮擦 | 其他的 | ||
硅基 | SX | ○ | ○ | 高密度 、低飛弧特性 | ◎ | ◎ | ◎ | n= 1.7 無定形 | |
英石 | ○ | △ 開發(fā)中 | ○ | 高密度、 高速成膜(>SX) | ○ | ◎ | ◎ | n=1.7~ 2.0非晶態(tài) |
此處列出的質量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關于下單時的質量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。
通過氧化反應濺射獲得非晶膜,該非晶膜平坦且具有低摩擦特性。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜具有優(yōu)異的耐刮擦性和耐化學性。
成膜速度比SX更快。
通過氧化反應濺射獲得非晶膜,該非晶膜平坦且具有低摩擦特性。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜具有優(yōu)異的耐刮擦性和耐化學性。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜具有液滴特性。
所得薄膜的折射率可在 1.7 至 2.0 之間變化,具體取決于目標組合物。
建材用Low-E(低輻射)薄膜用介電薄膜
防反射膜等光學膜用中折射率膜
材質系統(tǒng) | 產(chǎn)品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 膜質量 | ||
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平板 | 圓柱 | DC成膜 | 特征 | |||
鋅基 | 深圳 | ○ | ○ | ○ | 合金靶材 Ar膜沉積 | n=2.0 無定形 |
AZ | ○ | △ 開發(fā)中 | ○ | 合金靶材 Ar膜沉積 | n=2.0 無定形 |
此處列出的質量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關于下單時的質量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。
使用我們的制造方法,圓柱形 SZ 靶材與背襯管實現(xiàn)了高粘合強度。因此,與傳統(tǒng)的熱噴涂靶相比,可以使用高功率濺射進行高速成膜。
可制造總長3m以上的長圓柱形靶材。
環(huán)境及能源玻璃(太陽能電池等)用透明電極
顯示玻璃用透明電極
汽車和住宅玻璃用透明導電膜(熱反射玻璃、電動汽車表面加熱元件等)
纖維、薄膜等抗靜電涂膜
材質系統(tǒng) | 產(chǎn)品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 膜質量 | ||||
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平板 | 圓柱 | DC成膜 | 特征 | 電導率 | 耐化學性 | 其他特性 | ||
鋅基 | 廣州市 | ○ | ○ | 高密度燒結體 Ar成膜 | ○ | × | n=1.9 低溫結晶膜 | |
偶氮 | ○ | △ 開發(fā)中 | ○ | 高密度燒結體 Ar成膜 | ○ | × | n=1.9 低溫結晶膜 |
此處列出的質量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關于下單時的質量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。
相對密度90%以上的高密度ZnO靶材。
與ITO相比,不易產(chǎn)生結節(jié),可實現(xiàn)穩(wěn)定的放電。
可在純氬氣氣氛下成膜。
即使在室溫下也可以形成結晶膜。