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產(chǎn)品型號(hào):
所屬分類(lèi):傳感器
產(chǎn)品時(shí)間:2024-09-06
簡(jiǎn)要描述:日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測(cè)量技術(shù)的系統(tǒng):光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO
STIL DUO ---雙重技術(shù)“點(diǎn)”傳感器
Ø *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測(cè)量技術(shù)的系統(tǒng):光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
Ø STIL的光譜共焦原理可測(cè)量范圍從130µm到42mm。非常適用于粗糙度和表面形貌測(cè)量,在任何類(lèi)型的材料上都可獲得非常高的精que度,無(wú)論是反射還是散射。測(cè)量符合新ISO25178標(biāo)準(zhǔn)。
Ø STIL的共焦光譜干涉測(cè)量法,可獲得亞納米分辨率(<1nm)的厚度和形貌測(cè)量結(jié)果,可在大于100µm的測(cè)量范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量,且樣品的小可測(cè)厚度為0.4µm。
Ø 完美適用于工業(yè)環(huán)境,許多輸入和輸出以及軟件開(kāi)發(fā)套件,接口非常簡(jiǎn)單。?
- 振動(dòng)不敏感(OPILB-RP光學(xué)筆)
- 高信噪比(OPILB-RP光學(xué)筆)
- 不需垂直掃描
- 小可測(cè)厚度0.4µm
- 光學(xué)原理固有的亞納米分辨率
- 共焦使相鄰點(diǎn)之間無(wú)干擾,
- 厚度測(cè)量上具有卓yue性能(0.3nm分辨率,10nm精度
- 使用Multipeak軟件進(jìn)行多層樣品測(cè)量
日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO
參數(shù)
Ø *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測(cè)量技術(shù)的系統(tǒng):光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
Ø STIL的光譜共焦原理可測(cè)量范圍從130µm到42mm。非常適用于粗糙度和表面形貌測(cè)量,在任何類(lèi)型的材料上都可獲得非常高的精que度,無(wú)論是反射還是散射。測(cè)量符合新ISO25178標(biāo)準(zhǔn)。