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產(chǎn)品型號: TM-03
所屬分類:
產(chǎn)品時間:2024-09-06
簡要描述:日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03納米壓印法作為一種通過在樹脂或玻璃上按壓經(jīng)過數(shù)十至數(shù)百納米的超細加工的金屬模具而在短時間內(nèi)產(chǎn)生大量相同形狀的零件的技術(shù)而引起人們的注意。該方法也大致分為通過加熱軟化并進一步冷卻和固化的熱固化方法,以及使用UV固化樹脂并通過UV光固化的光固化方法。
日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03
納米壓印法作為一種通過在樹脂或玻璃上按壓經(jīng)過數(shù)十至數(shù)百納米的超細加工的金屬模具而在短時間內(nèi)產(chǎn)生大量相同形狀的零件的技術(shù)而引起人們的注意。該方法也大致分為通過加熱軟化并進一步冷卻和固化的熱固化方法,以及使用UV固化樹脂并通過UV光固化的光固化方法。
該設(shè)備是一種小型的研究設(shè)備,可以打印20 mm×20 mm的樣品。迄今為止,我們已經(jīng)制造出許多壓印裝置,它們相對較大,并且我們還不能改善世界上與壓印裝置有關(guān)的問題,例如研究成本負擔(dān)和確保安裝位置。做到了。
因此,我們創(chuàng)建了一種小型且不會占用實驗室空間的設(shè)備,并且可以在各種條件下進行研究。該納米壓印裝置主要是從大學(xué)研究和實驗的角度來制造的,由于消除了納米壓印裝置的昂貴引入的圖像,因此我們在考慮了裝置的尺寸和可用性之后也生產(chǎn)了這種尺寸的納米壓印裝置。壓印方法使用光固化方法,并且可以記錄圖形和表格數(shù)據(jù)。您為什么不比以往更輕松地嘗試使用新技術(shù)進行現(xiàn)場實驗?
[此設(shè)備的規(guī)格]
壓印方法 | 光固化方法 |
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紫外線裝置性能 | 光強度400 mW / cm2 波長大365 mm |
壓剝負荷 | 0.1?100N |
樣本量 | 20毫米x 20毫米 |
壓機剝離速度 | 1?1000微米/秒 |
電源供應(yīng) | 100伏交流電 |
樣品板 | 硅晶片/玻璃基板 |
設(shè)備重量 | 約25kg |
到目前為止,納米壓印設(shè)備已經(jīng)在各個地方進行了實驗,并且每天都在進行實際研究。到目前為止,我們已經(jīng)制造了各種壓印設(shè)備,但是還沒有制造簡單的壓印設(shè)備。
因此,我們創(chuàng)建了前suo未有的納米壓印設(shè)備,其概念是“無論光固化電源的位置如何,都可以攜帶一個簡單的便攜式壓印設(shè)備”。設(shè)備上裝有LED型紫外線燈,并使用電機驅(qū)動器進行升降,調(diào)節(jié)升降速度的操作很簡單。
多可施加200N的壓力傳遞壓力,而Φ20則可用于基材。首先,對于那些希望通過簡單的測試機廉價地打標的人來說,這是一臺推薦的機器。
[此設(shè)備的規(guī)格]
壓印方法 | 光固化方法 |
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紫外線裝置性能 | 光強度6.0 mW / cm2 波長大370 mm |
壓載 | 1?20牛 |
樣本量 | 10毫米x 10毫米 |
壓機剝離速度 | 20毫米/秒 |
電源供應(yīng) | AC100V或 DC12V 2.3A小電池 |
樣品板 | 硅晶片/玻璃基板 |
設(shè)備尺寸 | 高469 x寬300 x深200(毫米) |
本設(shè)備使用EB曝光系統(tǒng)通過熱固化或UV固化在大直徑輥(Φ150)上雕刻刻有輥壓印模具小直徑輥(Φ30)的納米圖案,以形成小直徑輥圖案。這是一種測試輥壓印設(shè)備,可將這種大直徑輥式模具的納米圖案轉(zhuǎn)印到薄膜上,然后將薄膜轉(zhuǎn)印到大直徑輥上。
[此設(shè)備的規(guī)格]
壓印方法 | 熱固化法/ UV固化法 |
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滾滾 | Φ300x 150 |
按對象 | 0.08?0.2噸 |
大輥壓負荷 | 500N |
單位面積負荷 | 3.92牛頓/毫米² |
涂布方式 | 尺寸壓制法/逗號滾模法 |
該裝置的納米壓印裝置可以通過該單元實現(xiàn)同時具有熱固化和光固化的兩種方法,并且壓印是通過從頂部進行印刷壓力來進行的。
除了設(shè)置所需的壓力負荷/速度和剝離負荷/剝離速度以外,還可以在PC上記錄研究/開發(fā)試生產(chǎn)所需的各種條件和測量結(jié)果,以便將來進行生產(chǎn)。它是在設(shè)置條件中起作用的設(shè)備。
[此設(shè)備的規(guī)格]
壓印方法 | 熱固化法/光固化法 |
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壓力/加載速度(總壓力) | 1?1000微米/秒 |
大負荷 | 從室溫到250°C |
工作尺寸 | 50 x 50毫米 |
【測試條件】